2021-12-20
半導體(FAB)潔凈室中相對濕度的目標值大約控制在30至50%的范圍內(nèi),允許誤差在±1%的狹窄的范圍內(nèi),例如光刻區(qū)──或者在遠紫外線處理(DUV)區(qū)甚至更小──而在其他地方則可以放松到±5%的范圍內(nèi)。
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